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KBB低溫定點(diǎn)黑體爐,固定點(diǎn)可選。35…100℃,每間隔5℃為1固定點(diǎn);100…150℃,每間隔10℃為1固定點(diǎn). 輻射面尺寸:51mm。
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BBS75低溫面源黑體爐采用半導體制冷,靶面2.5“ x 2.5“,在0.8 - 30 um波長(cháng)范圍內發(fā)射率達到0.95以上,可提供溫度范圍-30 - 75℃.
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BBS145低溫面源黑體爐采用半導體制冷,靶面2.5“ x 2.5“或3“ x 3“,在0.8 - 30 um波長(cháng)范圍內發(fā)射率達到0.95以上,可提供溫度范圍-5 - 145℃.
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BBS120低溫面源黑體爐采用半導體制冷,靶面尺寸Ф50mm,發(fā)射率0.98,可提供溫度范圍-15 - 120℃.
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BBS150低溫面源黑體爐采用半導體制冷,靶面6“ x 6“,在0.8 - 30 um波長(cháng)范圍內發(fā)射率達到0.95以上,可提供溫度范圍-5 - 150℃.
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BBS230-EX大面源黑體爐,輻射面尺寸達12” x 12”,發(fā)射率高達0.96,可提供環(huán)溫至230℃的溫度范圍。
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BBS350-EX大面源黑體爐,輻射面尺寸達12” x 12”,發(fā)射率高達0.96,可提供環(huán)溫至350℃的溫度范圍。
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BBS500-EX大面源黑體爐,輻射面尺寸達12” x 12”,發(fā)射率高達0.96,可提供環(huán)溫至500℃的溫度范圍。
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